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晶圓等離子清洗機(jī) 晶圓等離子清洗設(shè)備為半導(dǎo)體專用干式真空等離子表面處理設(shè)備，采用 13.56MHz 射頻 CCP 激發(fā)方式，依托高純工藝氣體電離形成等離子體，通過物理離子轟擊與化學(xué)反應(yīng)協(xié)同作 用，完成各類晶圓納米級(jí)精密清洗。