晶圓等離子清洗機(jī)
一、設(shè)備概述晶圓等離子清洗設(shè)備為半導(dǎo)體專用干式真空等離子表面處理設(shè)備，采用 13.56MHz 射頻CCP 激發(fā)方式，依托高純工藝氣體電離形成等離子體，通過物理離子轟擊與化學(xué)反應(yīng)協(xié)同作用，完成各類晶圓納米級(jí)精密清洗。設(shè)備適配硅片、碳化硅 SiC、氮化鎵 GaN、砷化鎵 GaAs、MEMS、SOI 絕緣層硅片，覆蓋4/6/8/12 英寸通用半導(dǎo)體晶圓、功率器件晶圓、射頻外延晶圓及各類先進(jìn)封裝載片晶圓。

二、技術(shù)參數(shù)：

晶圓等離子清洗機(jī)的完整技術(shù)參數(shù)如下表所示：

? 干式納米精密處理：射頻真空等離子復(fù)合作用工藝，清洗精度達(dá)納米級(jí)別，全程干式加工，無酸堿藥劑殘留污染。
? 高精度供氣配比：搭載多路 MFC 氣體控制系統(tǒng)，兼容 5N 及以上超高純工藝氣源，腔內(nèi)等離子場(chǎng)分布均勻性優(yōu)良。

? 低溫低損傷制程：采用低溫處理工藝，最大限度保護(hù)晶圓外延層、精細(xì)線路及高深寬比微觀結(jié)構(gòu)，基材損傷極小。

? 高潔凈真空體系：模塊化316L超高潔凈腔體，真空指標(biāo)優(yōu)異，腔體內(nèi)部潔凈度可控，規(guī)避腔內(nèi)二次污染。

? 智能可編程控制：PLC 集中控制系統(tǒng)，支持多組工藝配方存儲(chǔ)，功率、真空度、氣體流量、處理時(shí)長(zhǎng)全部參數(shù)閉環(huán)可調(diào)。

? 整體安全防護(hù)：配備全套電氣及工藝聯(lián)鎖保護(hù)，集成艙門真空互鎖、氣體泄漏檢測(cè)、超溫過載保護(hù)、尾氣無害化處理系統(tǒng)，設(shè)備運(yùn)行可靠性高。

四、售后服務(wù)：

? 質(zhì)保期限：整機(jī)提供 12 個(gè)月免費(fèi)質(zhì)保服務(wù)，射頻電源、真空泵、MFC 流量控制器等核心關(guān)鍵部件單獨(dú)質(zhì)保。質(zhì)保期內(nèi)因設(shè)備自身設(shè)計(jì)、制造缺陷引發(fā)故障，免費(fèi)提供配件更換及上門維修。

? 上門服務(wù)響應(yīng)：國(guó)內(nèi)區(qū)域故障報(bào)修后 2 小時(shí)內(nèi)技術(shù)對(duì)接，重大故障 24 小時(shí)抵達(dá)現(xiàn)場(chǎng)處理。

? 終身成本維護(hù)：質(zhì)保期滿后提供終身優(yōu)惠維保服務(wù)，原廠配件供給，定期出具設(shè)備巡檢保養(yǎng)方案。

? 技術(shù)培訓(xùn)服務(wù)：設(shè)備到貨調(diào)試完畢后，為甲方操作人員、工藝工程師、維護(hù)人員提供操作培訓(xùn)，涵蓋設(shè)備操作、配方調(diào)用、日常點(diǎn)檢、簡(jiǎn)單故障排查。

? 遠(yuǎn)程技術(shù)支持：提供 7×24 小時(shí)全天候遠(yuǎn)程線上技術(shù)支援，遠(yuǎn)程參數(shù)調(diào)試、工藝優(yōu)化、故障診斷，快速解決現(xiàn)場(chǎng)一般性問題。 技術(shù)規(guī)格書- 6 -

? 定期回訪服務(wù)：建立設(shè)備專屬檔案，定期主動(dòng)回訪設(shè)備運(yùn)行工況，給出真空系統(tǒng)、氣路、密封件、耗材周期性更換建議。

? 工藝迭代支撐：配合客戶晶圓新產(chǎn)品開發(fā)，持續(xù)提供等離子工藝參數(shù)優(yōu)化、氣體配比、制程方案配套技術(shù)支持。